マニュアル/自動スパッタコーター SC7640  生産中止

 SC7640 は165mm のチェンバーサイズを持つ汎用SEMスパッタコーターです。手動または自動運転の切り替えが可能です。自動運転はオペレーターの操作と時間を省くことが可能です。独自の設計により冷却機能を持ったDC マグネトロンスパッタヘッドを組み込み、微細なコーティングを可能にしました。ターゲットサイズは直径 82mmにつき、大きい試料での均一なコーティングに最適です。自動制御によりターゲット電流と真空度をモニタリングしながら0 から3KVの間で電力供給が変化します。
付属品のターゲットはAu/Pd ですが、オプションにてAu、Pt、Ni、Ag、Pdなどの選択が可能です。
一般的な処理時間は約3分( 5 -15nm )です。真空排気はオイルミストフィルター付ロータリーポンプ90L/min で行います。(オプション)

    大型試料用 マニュアル/自動スパッタコーター SC7680  生産中止

 SC7680 大型試料用マニュアル/ オートスパッタコーターはSC7640 の性能を受け継ぎながら、さらに200mm の大きな試料に対応するよう設計されました。また可変回転機能を備えた試料ステージが採用され、大型試料はクリップで容易に固定することができます。手動または自動運転の切り替えが可能です。自動運転はオペレーターの操作と時間を省くことができます。独自の設計により冷却機能を持ったDC マグネトロンスパッタヘッドを組み込み、微細なコーティングを可能にします。
Au またはAu/Pd ターゲットを使用した一般的な処理時間は約4 分間( 5 -15nm )です。を行います。
一般的な処理時間は3 分未満です。

    マニュアル/自動スパッタコーター K500X/K550X  生産中止

 このK500XとK550X はデジタル制御方式を採用し、SEMなどのアプリケーションに理想的なスパッタコーターです。550X には回転及び傾きを制御可能な試料ステージを採用しています。K500Xの試料ステージは固定式で回転しません。両タイプともに直径165mm のグラスチェンバーを採用。事前に設定条件などの入力を行うことにより自動制御でコーティングを行うことができます。
一般的な処理時間は約4 分間です(Au 膜厚5-15nm のとき)。K500X 及びK550X は酸化しにくい金属ターゲットをコーティングするように設計されており(Au、Pt、Ni、Ag、Pdなど)、
標準でAu ターゲットが付属しています。

    大型試料用 デジダル・オートスパッターコーター K650X  生産中止

 K650X はデジタル制御された大型試料用のスパッタコーターです。SEM 向けのさまざまな金属コーティングのアプリケーションに適しています。直径200mmまでの試料に3つのマグネトロンターゲットヘッド及び回転試料ステージを用いることで試料全面への均一なコーティングを可能にしました。
デジタル制御によりコーティングプログラムの入力で再現性のある均一なスパッタコーティングが行えます。
K650Tタイプはターボポンプ(60L/sec)を搭載し、よりクリーンな状態でのコーティングが行えます。

    高性能ターボスパッタコーター K575X  生産中止

 K575Xシリーズは60L/sec のターボ分子ポンプを採用し、オプションのロータリーポンプと組み合わせてスピーディーな真空引きを行います。複雑な操作などは無く、優れた自動制御によりどなたにも簡単にスパッタコーティングが行えます。使用するターゲットにはAu やPt 等はもちろん、コーティング前の脱ガス処理が自動で行われるため、従来のスパッタコーターでは難しいクロム等を含む酸化しやすい金属も容易にコーティングすることができます。
DC マグネトロンヘッドを採用し、ターゲットの交換は容易に行えます。ターゲット部には優れたペルチェ冷却機構(冷却水は不要)が備わっており、安定した高精細のコーティングが可能です。
スパッタ条件は事前に設定することができ、アルゴンガス流量はニードルバルブを利用して最適な値に調整することができます。
チェンバー径は165mmで、オプションで100mm 径までの試料ステージを用意しています。試料導入後、真空引き、コーティング、大気開放までの平均的な処理時間は約5 分間です。

    大型試料用ターボスパッタコーター K675X  生産中止

 K675X は全自動制御により条件(スパッタ電流・処理時間など)を入力することにより、再現性のある均一なコーティングを行うよう設計されました。ターゲットは酸化しにくい金属はそのまま、酸化しやすい金属であるクロムやアルミニウムなどはクリーニング機構によりコーティング前にターゲットシャッターを閉じ、ターゲットクリーニングを行った後、清浄面でコーティングすることができます。K675X は300mm 大型チェンバーで試料は最大200mmまで対応可能です。クリーンな真空を作り出すターボポンプを組み込み、酸化しやすい金属にも対応するトリプルマグネトロンターゲットヘッドを搭載し、回転試料ステージにより大きな試料も均一なコーティングが行えます。
トリプルマグネトロンターゲットヘッドは異なるターゲットを自動で連続してコーティングをする設定はできません。2 種類のターゲットを自動で連続してコーティングしたい場合はK675XD デュアルヘッドシステムをご参照ください。小さい試料などにはトリプルマグネトロンターゲットヘッドの中からシングルヘッドを選択し効率の良いコーティングを行うことができます。

    300mm ウェーハー対応 高性能ターボスパッタコーターSC000  生産中止

 SC3000 はコンパクトな筐体で300mmウエハーのコーティングを可能にしました。ターゲットにはCr 等の酸化しやすい金属材料にも対応可能な優れた大型スパッタコーターです。ターゲットヘッドには高効率低電圧DC マグネトロンヘッドを採用し、低い温度での微細のコーティングが行えます。3つのターゲットヘッドは試料回転ステージにマウントされた大型のサンプルに対応できるよう、それぞれ可動するよう設計されています。これにより従来必要であった大型蒸着装置を使用せずに、300mm 径の試料のコーティングが低コストで行えるようになりました。
SC3000 の真空排気系は本体に内蔵されたターボ分子ポンプとオプションのスクロールポンプの組み合わせを採用しております。半導体製造エリアなどのクリーンな環境内での操作にも適しています。ターゲットヘッドには異なる3種類のターゲットを取り付け可能で、あらかじめ15通りのプログラムの設定ができます。ターゲットの種類に応じてコーティング前のクリーニングが自動で行われ、標準の膜厚計により正確なコーティング制御が行えます。
この試料回転ステージは、100mm/150mm/200mm/300mm のサイズに対応し、各ステージは自動判別機能によりコーティング領域が自動で選定されます。

    SEM用マニュアルカーボンエバポレーター CC7650  生産中止

CC7650 SEM 用マニュアルカーボンエバポレーターは、EDS、WDSとマイクロプローブアプリケーション向けに開発されたコンパクトベンチトップのカーボンエバポレーターです。標準タイプはカーボンファイバーが取り付けられていますが、カーボンロッドタイプも選択が可能です。それぞれ炭素源の脱ガス時においてはシャッター機構により試料が保護されます。試料の大きさにより容易に高さを変えられ、6 つのSEM 用スタブが試料ホルダーに装着できます。
フロントパネルは真空計及び電流計が組み込まれています。
カーボンコーティングはパルス動作または連続動作の選択可能です。
チェンバーサイズは直径165mm、オプションのロータリーポンプにより真空引きを行います。
一般的な処理時間は3 分未満です。

    SEM用全自動カーボンエバポレーター K450X  生産中止

K450 は全自動制御のデジタルロータリーポンプ仕様のSEM 用カーボンエバポレーターです。
排気系はロータリーポンプを使用します。このシステムではカーボンファイバーに対して低電圧・高電流を加えてエバポレーティングを行います。独自のターゲットシャッター機構を備え、カーボンファイバーの脱ガス時において試料が熱ダメージを受けない工夫が盛り込まれています。
全ての工程は全自動で行われます(真空引き及びターゲットの脱ガス処理、ターゲットシャッター開閉、コーティング処理)。カーボンファイバーは構造上、早く燃焼しますので時間をおいて幾度かに分かれて燃焼いたします。
最後の行程ではターゲットシャッターが閉まりチェンバーが大気開放します。カーボンファイバーの種類により事前に設定条件を変更することができます。
試料回転ステージはさまざまな試料表面への最適なコーティングが行えるよう回転及び傾きを変えることができます。
 

    高性能ターボエバポレーター K950X  生産中止

 カーボンロッドを採用し連続して安定したカーボンエバポレーションを行うことができます。TEM やSEM、EDS 及びWDS などのアプリケーションに最適な装置です。カーボンロッドの供給により2nm 以上の膜厚において優れた処理を行います。このK950X は60L/sec のターボ分子ポンプを備え、ロータリーポンプとの組み合わせにより真空引きを行います。この組合せによりクリーンな条件下で処理が行われ、真空度は1x10-4mbarより高真空へと容易に到達致します。ターゲット電流のコントロールは可変制御方式を採用し、事前にカーボンロッドを予熱して脱ガスを行った上で最適なエバポレーションを行うことができます。回転及び傾斜可能な試料ステージを標準装備しています。
オプションでは通常のスライドガラスが固定可能なタイプもありアスベストの分析などでカーボンコーティングを行う際に便利です。標準のカーボンロッドヘッドではクイックリリース機構により取り扱いが容易です。またオプションヘッドにはメタルエバポレーション用やカーボンファイバー用を取り揃えています。
ガラスチェンバーはポリカーボネード製の保護シールドで覆われています。

    高真空ミニカーボン&メタルエバポレーター E6500  生産中止

 大型試料用ターボスパッタコーターE6500 はコンパクトな筐体ながら大きなサンプルのエバポレーションを可能にするTEM/SEM 用カーボン&メタルエバポレーターです。試料処理室内はビューポートから最適な角度で望み、ターゲットから試料面への距離調整など取り扱いが容易となっているのが特徴です。

    TEM/SEM用多機能ターボエバポレーター E6700  生産中止

E6700 は拡張性を持ったコンパクトなベンチトップタイプのエバポレーターです。TEM/SEMのサンプル対応はもちろん、
ユーザーの要求に合わせたオプションユニットを選択していただく事により幅広いニーズに対応できるように設計されています。
E6700 の操作は非常に簡単です。クリーンな環境でスピーディーな真空引きが可能です。大型ターボ分子ポンプ
(250L/sec)を搭載、オプションのロータリーポンプとの組み合わせで真空排気を行います
(10-4mbar 台には4 分、到達真空度は10-6mbar 台)。
チェンバー内は300mm のステンレス・ベースプレートに組み込まれたジギング・アッセンブリーがあります。
標準のジギングアッセンブリーはカーボンロッド(6.2mm 径)及び金属源(フィラメントまたはボート)が取り付けてあります。
250mm のベル型チェンバーには防護シールドが含まれています。
幅広いオプションに対応致します。
 


その他の生産中止品

              
E5000 Sputter Coarter
 
PS3 Sputter Coater
 
E5100 'Cool' Sputter Coater
 
E5150 FTM-controlled 'Cool' Sputter Coater
 
E5175 Large Chamber 'Cool' Sputter Coater

 E5200 Automatic Sputter Coater
 
E5400 High Resolution
Sputter Coater
 E5800 Plasma Enhanced AC Sputter Coater
 
SC502 'Mini' Sputter Coater
 
SC500 and SC500A Sputter Coaters
 
SC650 and SC650A Large
Chamber Sputter Coater
 
SC510 'Cool' Sputter Coater
 
SC515 FTM-controlled 'Cool' Sputter Coater
 
SC7610 Sputter Coater
 
E5550 Film Thickness Monitor Module
 
E6200 Carbon Coater
 
E5600 SEM Carbon Coater
 
E6000 Vacuum Evaporator
 
E6100 Bench-Top Vacuum Evaporator
 
TB500 SEM Carbon Coater